半导体工业废水处理系统

设备概述：

半导体工业废水处理系统针对半导体制造过程产生的酸碱废水、含氟废水与研磨废水分类收集、分质处理，出水可满足工业软化水标准并回用。

工艺原理：

各类废水分别收集：酸碱废水经 pH 中和调节至中性；含氟废水投加钙盐生成氟化钙沉淀去除氟离子；研磨废水经混凝沉淀去除悬浮颗粒。各路出水汇合后经吸附与化学混凝沉淀进一步净化，再经多介质过滤与膜处理单元深度脱盐，产水送入回用水箱，浓水按规范处置。

技术特点：

· 分质收集、分路处理，避免交叉反应影响去除效果；

· pH 中和 + 化学沉淀 + 吸附组合，对氟化物与重金属去除稳定；

· 膜处理单元产水水质可满足工业软化水标准；

· 全流程自动控制与在线监测，加药与排放可追溯；

· 系统密闭运行，减少二次污染。

应用范围：

适用于半导体、集成电路、面板、光伏、电子元件制造等行业的生产废水处理与回用。

选型说明：

需根据废水类别、氟化物与重金属浓度、电导率、日排水量与回用要求确定工艺与膜配置；浓水处置方式需在设计阶段确认。